ErfindungspatentPI0318515
IBF Indústria Brasileira de Filmes Ltda.
Patente concedida em 13/11/2012 e depois extinta em 31/10/2023. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Mit einem Fachmann sprechenLetzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 31.10.2023. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.
Zusammenfassung
"COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTO SENSÍVEIS À LUZ ÚTEIS PARA ELEMENTOS LITOGRÁFICOS". Uma composição sensível à radiação, a qual é principalmente sensível na região próxima à UV e visível do espectro eletromagnético, é composta de um ligante polimérico, um monômero etilenicamente insaturado, um composto absorvedor de radiação, um fotoacelerador, um composto ônio, e um promotor de adesão, os quais são revestidos com uma camada de barreira de oxigênio. Quando aplicada ao suporte adequado e processada, a composição é útil como uma placa de impressão litográfica offset, filme para resistir à cor ou camada protetora de imagem.
IPC-Klassifikation
Veröffentlichungen im Brasilianischen Amtsblatt für gewerblichen Rechtsschutz (RPI).
31.10.2023
RPI 2756
24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2741 de 18-07-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
18.07.2023
RPI 2741
21.6
Referente à 20ª anuidade.
13.11.2012
RPI 2184
16.1
19.06.2012
RPI 2163
9.1
06.12.2011
RPI 2135
6.1
12.09.2006
RPI 1862
1.3
Vom selben Inhaber
