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ErfindungspatentPI0208127

MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS.

GE Betz, Inc.

Arquivada/ExtintaIPC C02F 5/10PCT

Stand beim INPI

  1. Abgelaufen27.12.22

Carta-patente expirada em 27/12/2022: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

Mit einem Fachmann sprechen

Letzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 27.12.2022. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.

Technische Daten

Zusammenfassung

"MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS". A presente invenção refere-se a novos polímeros solúveis em água ou dispersáveis em água úteis para inibir a formação e deposição de porções formadoras de incrustação em sistemas aquosos que consistem em unidades repetitivas caracterizadas pela fórmula I em que E é a unidade repetitiva que permanece após a polimerização de um composto etilenicamente insaturado; preferencialmente um ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido fosfônico ou sua forma de amida ou suas misturas. R~ 1~ é hidrogênio ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida, G é -CH~ 2~- ou -CHCH~ 3~-; R~ 2~ é -(-CH~ 2~-CH~ 2~-O-)-n ou -(-CH~ 2~-CHCH~ 3~-O-)-m onde n e m situam-se na faixa de cerca de 1 a 100, preferencialmente n é maior do que 10 e m situa-se na faixa de cerca de 1 a 20. X é um radical aniônico selecionado do grupo constituído em SO~ 3~, PO~ 3~ ou COO; Z é H ou hidrogênios ou qualquer porção catiônica solúvel em água que contrabalance a valencia do radical aniônico X, incluindo mas não-limitado a Na, K, Ca ou NH~ 4~. F, quando presente, é uma unidade repetitiva tendo a estrutura da Fórmula II: na qual X e Z são os mesmos que na Fórmula I. R4 é H ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida. R~ 5~ é alquila ou alquileno substituído por hidróxi tendo cerca de 1 a 6 átomos de carbono.

IPC-Klassifikation

Prioritätsansprüche

US

09/806,679 · 15.03.2001

US

09/878,646 · 11.06.2001

Verfahrensgeschichte

Veröffentlichungen im Brasilianischen Amtsblatt für gewerblichen Rechtsschutz (RPI).

27.12.2022

RPI 2712

Carta-patente expirada

21.1

PATENTE EXTINTA EM 27.11.2022

27.11.2012

RPI 2186

Concessão da patente

16.1

17.07.2012

RPI 2167

Deferimento

9.1

07.02.2012

RPI 2144

Exigência - art. 36 da LPI

6.1

14.06.2011

RPI 2110

Exigência - art. 36 da LPI

6.1

06.04.2010

RPI 2048

Anulação de publicação (variante)

15.22

Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 81 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

13.10.2009

RPI 2023

Conhecimento de parecer técnico

7.1

29.06.2004

RPI 1747

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

1.3.1

Referente à RPI nº 1733 de 23/03/2004, quanto ao ítem 72

23.03.2004

RPI 1733

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

1.3