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GebrauchsmusterMU8901027

DISPOSIÇÃO APLICADA A TELHA DE COBERTURA

Cerâmica Cejatel Ltda

ArquivadaIPC E04D 1/04

Stand beim INPI

  1. Eingestellt

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/05/2009, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Mit einem Fachmann sprechen

Letzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 18.09.2012. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.

Technische Daten

Zusammenfassung

DISPOSIÇÃO APLICADA A TELHA DE COBERTURA se refere a uma telha (1) cujas ondulações (2) apresentam uma curvatura maior, formando ondas mais elevadas, suficientes para propiciar maior resistência ao vento, apresentando uma borda frontal com curvatura para baixo (3), que facilita o encaixe e aumenta a resistência aos ventos, sendo dotada em seu canto de um recorte transversal (4) com dimensão suficiente para permitir sobreposição. Em que a face inferior da telha (5) é provida de frisos salientes paralelos (6), que sustentam a telha durante a queima e de uma região plana (7) com medida suficiente longa para permitir encaixe da ripa, bem como um rebaixo (8) que favorece a sobreposição. Enquanto a face superior é provida de uma região de sobreposição (9), que facilita e otimiza a sobreposição das telhas, além uma canaleta lateral (10) cuja finalidade é captar e permitir o escorrimento de água da chuva, apresentando, ainda uma elevação lateral (11) ao longo de sua borda lateral, com dimensão suficiente para impedir a passagem de água.

IPC-Klassifikation

Verfahrensgeschichte

Veröffentlichungen im Brasilianischen Amtsblatt für gewerblichen Rechtsschutz (RPI).

18.09.2012

RPI 2176

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

11.1.1

26.06.2012

RPI 2164

Arquivamento - Art. 33 da LPI

11.1

16.08.2011

RPI 2119

Publicação do pedido de patente

3.1

28.12.2010

RPI 2086

6.7

Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.

13.10.2009

RPI 2023

Pedido de patente depositado

2.1