COMPOSTO PARTICULADO DE POLIUREIA A2), COMPOSIÇÃO DE RESINA A, COMPOSIÇÃO RETICULÁVEL, PROCESSO PARA REVESTIR UM ARTIGO OU UM SUBSTRATO, E, SUBSTRATO
ALLNEX NETHERLANDS B.V.
Em ExigênciaIPC C07C 273/18PCT
Vom INPI im Amtsblatt für gewerbliches Eigentum veröffentlichte Abbildung.
Stand beim INPI
Technisches Gutachten zu beantworten
Anmeldung20.06.22
Veröffentlichung27.02.24
Prüfung
Erteilungsbeschluss
Erteilung
In Kraft
O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.
Letzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 21.07.2026. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.
Technische Daten
Zusammenfassung
COMPOSTO PARTICULADO DE POLIUREIA A2), COMPOSIÇÃO DE RESINA A, COMPOSIÇÃO RETICULÁVEL, PROCESSO PARA REVESTIR UM ARTIGO OU UM SUBSTRATO, E, SUBSTRATO. São providos um composto particulado de poliureia a2) para reduzir o brilho de revestimentos, uma composição de resina e uma composição reticulável compreendendo o composto particulado de poliureia, em que o percentual em volume de partículas do composto particulado de poliureia tendo um diâmetro menor que a 2 micrômetros é igual ou menor que 25%, e o percentual em volume de partículas do composto particulado de poliureia tendo um diâmetro maior que 20 micrômetros é igual ou menor que 10%.
