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Erfindungspatent112020003856

COMPOSIÇÕES DE GALVANIZAÇÃO PARA DEPOSIÇÃO ELETROLÍTICA DE COBRE, SEU USO E MÉTODO PARA DEPOSIÇÃO ELETROLÍTICA DE UMA CAMADA DE COBRE OU LIGA DE COBRE SOBRE PELO MENOS UMA SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO

ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH

ConcedidaIPC C25D 3/38PCT

Stand beim INPI

  1. In Kraft16.10.38

Patente concedida em 09/01/2024 e em vigor até 16/10/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Schutz gültig bis:16.10.2038

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Letzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 09.01.2024. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.

Technische Daten

Zusammenfassung

A presente invenção refere-se a uma composição de galvanização para a deposição eletrolítica de cobre, que compreende íons de cobre, íons de haleto e pelo menos um ácido, pelo menos um composto benzotiazol, pelo menos um corante de fenanzina e pelo menos um derivado da etanodiamina. A presente invenção também diz respeito ao uso da composição de galvanização acima e a um método para a deposição eletrolítica de uma camada de cobre ou liga de cobre sobre pelo menos uma superfície de um substrato.

IPC-Klassifikation

Prioritätsansprüche

EP

17200836.9 · 09.11.2017

Verfahrensgeschichte

Veröffentlichungen im Brasilianischen Amtsblatt für gewerblichen Rechtsschutz (RPI).

09.01.2024

RPI 2766

Concessão da patente

16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 16/10/2018, observadas as condições legais

14.11.2023

RPI 2758

Deferimento

9.1

19.07.2022

RPI 2689

Parecer de pré-exame

6.23

23.11.2021

RPI 2655

Adição na publicação

15.35

08.09.2020

RPI 2592

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

1.3

10.03.2020

RPI 2566

Alteração de dados cadastrais

1.1